三線擺式高性能氣浮隔振光學平臺

簡要描述：譜量光電研發生產的三線擺式高性能氣浮隔振光學平臺，是我司結合多年在隔振領域的研發及應用經驗，為超高精密實驗需求開發的一款高性能氣浮隔振平臺，對標業內頂級品牌，支腿為獨立式圓腿支撐，無整體共振，內部三線擺設計可將振動隔離到更低的水平，并在受到干擾后實現高精度工作臺重新定位，層流阻尼技術大大提高阻尼效率，混合腔設計極大增加給定尺寸下的柔性體積，同時有效降低了固有頻率。

產品型號：PLGQS
廠商性質：生產廠家
更新時間：2024-06-05
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詳細介紹

品牌	其他品牌	價格區間	3萬-5萬
產地類別	國產	應用領域	醫療衛生,電子,航天,汽車,電氣
材質	430高導磁不銹鋼	平面度	≤0.05mm/㎡
振幅	<1.2um	螺孔間距	25mm
螺孔規格	M6（公制）

產品介紹

譜量光電研發生產的三線擺式高性能氣浮隔振光學平臺，是我司結合多年在隔振領域的研發及應用經驗，為超高精密實驗需求開發的一款高性能氣浮隔振平臺，對標業內頂級品牌，支腿為獨立式圓腿支撐，無整體共振，內部三線擺設計可將振動隔離到更低的水平，并在受到干擾后實現高精度工作臺重新定位，層流阻尼技術大大提高阻尼效率，混合腔設計極大增加給定尺寸下的柔性體積，同時有效降低了固有頻率。

平臺標配大功率優質靜音壓縮機。上面板采用優質高導磁430不銹鋼具有重量輕、高剛度、高阻尼等優點，經精密研磨處理平面度高，回旋打磨工藝清除毛邊達到無反射、亞光效果，面板具有M6陣列螺孔，易于固定光學元件，是超高精密科研實驗的理想之選。